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中芯国际今年可能拿不到光刻机了。《日经新闻》报道称,“荷兰半导体设备供应商ASML已中止和中芯国际的合作计划,且多位ASML供应商关系人士表示,ASML此举是为了避免因供...

目前国产光刻机只能做到90nm工艺级别,与先进水平差距甚远,而光刻机技术难度非常高,ASML公司也是联合多个合作伙伴花了二三十年才取得成功的。

继台积电宣布将全年开支从110亿美元提升至140-150亿美元后,有消息称三星将斥资约181亿元向荷兰公司ASML购买15台EUV光刻机,用于提升7nm芯片的产能。实际上...

国内发展半导体产业的决心已经无需多言,目前国内最薄弱的领域还是芯片制造,而在这方面我们又缺少尖端的半导体生产设备,尤其是光刻技术,这是半导体芯片生产中的核心工艺。在201...

北京国望光学科技有限公司增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资,国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理研究所(简称“长春光机所”)和中国科学院上海光学精密机械研...

EV集团和肖特携手合作,证明300-MM光刻/纳米压印技术在大体积增强现实/混合现实玻璃制造中已就绪2019年8月28日,微机电系统(MEMS)、纳米技术和半导体市场晶圆...

近日,湖北葛店开发区管委会副主任杨景平带队赴北京招商引资,并访问了京东方-北京北旭电子材料有限公司。

1、光刻机《这些“细节”让中国难望顶级光刻机项背》(科技日报4月19日)制造芯片的光刻机,其精度决定了芯片性能的上限。在“十二五”科技成就展览上,中国生产的最好的光刻机,...

日本政府于7月初对韩国祭出出口管制令,加强光刻胶、氟化氢和氟化聚醯亚胺等3项半导体材料的出口管制。此举引发韩国强烈不满、痛批日本加强出口管制是「禁运措施」。不过日本多次强...

1984年,一部名为《1984》的广告片震撼世界,苹果公司通过这部广告片为第一代Mac造足了势,个人电脑从此与人们的生活变得密不可分。在大洋彼岸的另一边,日本半导体做的如...

据业内人士透露,尽管默克公司已就用于制造OLED显示器的光刻胶产品的开发加强了与台湾LCD面板产商的合作,但是批量生产这种关键电子材料的具体时间尚未确定。

在3D打印的精彩世界中,我们已经看到了不少3D打印相机,但这些往往是针孔相机的种类。

国内比较薄弱的是半导体设计及制造,尤其是半导体工艺,目前台积电、三星、Intel已经量产了10nm及7nm工艺,国内目前最先进的量产工艺还是28nm,14/12nm工艺尚...

一文了解光刻机的发展  2019-05-15 05:09

更难得的是,和低可靠性的航天高科技不同,航发和光刻的可靠性也是人类骄傲之花:前者保证了每天十万架飞机在天空安全翱翔,后者在全球工厂每秒钟刻出上千亿个晶体管分毫不差。

4月26日,先锋就发布了新款蓝光刻录机“BDR-212JBK”,无论从型号还是外观上看,它都和BBDR-211JBK、BDR-S12J如出一辙,毕竟这年头这种产品已经不需...

极紫外光刻技术,成为潜在的摩尔定律的救世主已经很久了。 十几年前,路线图要求EUV于2011年到货。直到去年它才开始运行。

EUV源已达到半导体制造所需的200瓦级。然而,暴露的光致抗蚀剂的缺陷限制了当前7纳米节点的产量,并且未来的5和3纳米节点将面临更大的问题。

4月10日记者从武汉光电国家研究中心获悉,该中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制,采用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段,实现了从超...

本周,关于光刻机“一哥”ASML(荷兰阿斯麦)机密文件被员工盗走的消息甚嚣尘上,对此ASML表示确有此事,但淡化了影响。

现在,一种基于最先进激光器的新型实验室EUV光源能够为开发人员提供更高的空间和时间分辨率,这有助于开发人员理解并解决上述问题。

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