根据相干合成的原理，建立了三路矩形光束相干合成的数学仿真模型，根据数学模型编写了仿真程序；模拟计算了1～21阶泽尼克像差下，单路矩形光束和三路矩形拼接光束的波像差与光束质...
在主振荡功率放大器结构的光纤激光相干合成系统中，模拟了随机并行梯度下降(SPGD)算法校正七路激光阵列间时变倾斜相差的动态过程，分析了不同倾斜相差幅值和频率对校正能力的影...
文：权衡财经iqhcj研究员 王心怡 编：许辉 掩模版主要分为半导体和平板显示掩模版，半导体掩模版的生产需要同时协调上游芯片设计版图和下游晶圆制造工艺要求。全球市场中...
最近，光刻机话题异常火热，似乎全世界都在关注中国本土相关产业的发展。要想制造出一台可商用的高端光刻机（可制造7nm及更先进制程芯片），是一项复杂的工程，因为高端光刻机所需...
前言常规紫外投影光刻机需要先制作掩模板，耗材成本高、制备周期长，很难满足材料器件实验室对灵活性和实验进度的要求。近年发展起来的无掩模光刻技术突破这一技术限制，实现任意形状...
信息和通信技术(ICT)蓬勃发展，提供了改变生活的服务方式，需要越来越多的数据处理、存储和通信。在过去十年中，ICT服务以指数级速度增长，预计到2030年将占全球用电量的...
文︱立厷图︱网络近日,“国产光刻机取得关键性进展,ASML始料未及”的报道,由于没有过多细节,振奋还是为时过早。如果国产光刻机能达到国际水平,国内科技水平的提升将是突飞猛...
文︱立厷图︱网络近日,“国产光刻机取得关键性进展,ASML始料未及”的报道,由于没有过多细节,振奋还是为时过早。如果国产光刻机能达到国际水平,国内科技水平的提升将是突飞猛...
伴随集成电路的发展，随之而来的是集成电路光刻技术的发展，光刻技术经历了从最初的接触式光掩模技术起步，到今天的世界最先进光刻技术已经跨越到了7nm。弹指间，技术变革的脚步始...
近日，南方科技大学机械与能源工程系助理教授徐少林团队围绕“激光超分辨率纳米制造”主题，在Nature Communications， Advanced Optical M...
报告要点1、本土IC设计亟待成长,精选赛道享双重红利IC设计作为半导体行业中极其重要的一环,是国产替代的重要组成部分。细分赛道来看,计算连接方面:5G、AIoT技术的持续...
2020年12月3日，很快就过年了。今年3D打印依然大火，无论是产业界还是科研界。那么在科学研究上，有哪些突破性进展呢？新的技术突破，往往孕育着新的市场应用机会。南极熊希...
微纳3D打印和“传统”3D打印的主要区别在于，微纳3D打印能达到“传统”3D打印无法达到的高精度。微纳3D打印的精度能达到细观、微观和纳观（即十亿分之一米）级别。这一特性...
芯片是什么?一颗小小的硅片上布满了排列整齐的集成电路,阳光下,像一种五彩斑斓的昆虫。但正是这种“昆虫”实实在在地控制着科技时代的纷纭万物:手机、电脑、家居电器、汽车机械、...
偏振阵列波导方案和浮雕光栅波导方案是目前两个最有前景的主流AR方案，一个代表着现在，一个代表着未来。珑璟光电率先在国内实现偏振阵列波导的大规模量产，同时积极部署浮雕光栅波...
昨天关于中国成功超分辨率光刻机的新闻刷爆了朋友圈，这个新闻出来以后，舆论出现了两个极端，一堆人说很牛，一堆人说吹牛。那么这两种说法到底谁对谁错呢？
如今，芯片制造技术的竞争愈发激烈。台积电与英特尔这两大巨头在2nm到1nm制程领域竞相推出更先进的制程工艺，力图抢占市场先机。 在这场先进制程的对决中，你是更为信任台积...
对于半导体行业而言，光刻技术和设备发挥着基础性作用，是必不可少的。 ?所谓光刻，就是将设计好的图形从掩模版转印到晶圆表面的光刻胶上所使用的技术。光刻技术最先应用于印刷工...
美国Hinds Instruments研发基于PEM光弹调制原理的Exicor高精度应力双折射测量系统、Microlmager应力测量显微镜、穆勒矩阵测量仪、偏振测量仪、...
美国Hinds Instruments的双折射测量技术已经被行业采用，以高精度、分辨率和重复性测量表征材料中的应力双折射。应力仪能够在0．001nm分辨率下测量光阻，最低...
