众所周知，过去几十年以来，芯片制造工艺，主要是光刻工艺。利用光线，将芯片电路图，投影到硅晶圆片上，中间最核心的设备，就是光刻机。 同时光刻技术，就直接定义了芯片工艺，直...

（本篇文篇章共715字，阅读时间约1分钟） 近日荷兰光刻机巨头ASML首次向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机，这一机器被视为全球最先...

在光刻机市场，业界都清楚ASML是老大，中国的光刻机技术还远远落后，不过这里说的其实是前道光刻机，芯片制造行业除了前道光刻机之外，还有后道光刻机，而后道光刻机则是国产光刻...

年初的时候ASML曾指责中国雇员窃取光刻机技术，甚至它的高管还声言即使给中国图纸，中国也无法制造光刻机，然而半年多时间过去，中国却用事实来打脸，促使ASML迅速转变态度，...

众所周知，目前芯片技术在2020年进入5nm后，今年已经正式全面从5nm进入了3nm，三星、台积电这两大巨头，已经实现了3nm芯片的量产，而苹果更是依托台积电，推出了3n...

日前媒体纷纷传言清华研发成功EUV光刻机，这个其实夸大了事实，不过却也确实是EUV光刻机的重大突破，将绕开ASML等西方垄断的EUV光刻技术路线，开辟一条全新的道路。 ...

日前长江存储代理CEO公开表示如果ASML拒绝为已购买的光刻机提供售后服务和配件，作为客户有权要求ASML回购光刻机，如果ASML被迫回购中国芯片企业已购买的800台光刻...

众所周知，目前的芯片制造技术，均是以光刻技术为基础的。 所有的晶圆厂制造芯片时，均是先将电路图，刻在光掩膜板上，然后再利用光刻机的光线去照射，最后把这些电路图投影涂了光...

对于半导体行业而言，光刻技术和设备发挥着基础性作用，是必不可少的。 ?所谓光刻，就是将设计好的图形从掩模版转印到晶圆表面的光刻胶上所使用的技术。光刻技术最先应用于印刷工...

众所周知，在目前的技术下，制造7nm以下的芯片，必须使用EUV光刻机。 而全球仅ASML一家能够制造出EUV光刻机，而2022年，全球一共出货40台EUV光刻机，而截止...

预计未来一段时间，在技术创新推动下，我国步进式光刻机行业发展速度将进一步加快。 光刻机一般分为扫描式光刻机和步进式光刻机两种，步进式光刻机为市场主流产品。步进式光刻机指...

今晚（3月21日），NVIDIA春季GTC技术大会召开。作为NVIDIA炫技的主要舞台，新东西可谓眼花缭乱。 其中值得关注的一项是，NVIDIA宣布推出cuLitho软...

日前，东海证券发布研报指出，光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光线较为敏感的有机混合物，可利用光化学反应将光刻系统中经过衍射、滤波之后的光信息转化为化学能量，迚而将掩模版上的...

知情郎·眼｜科技那些事儿半导体领域作为我国科技发展的短板，在这个领域一直受限于人，但中企们也没有选择坐以待毙，大力推动自研芯片和自研半导体设备的发展，进一步实现自主可控。...

通过使用钛:蓝宝石（Ti：Sapphire）激光和中红外自由电子激光来构造硅，日本科学家们已经证明了激光诱导的周期性表面结构(LIPSS)是如何随激光性质而发生变化的。

众所周知，光刻机是当前晶圆厂商们制造芯片不可缺少的产品，而EUV光刻机，则用于7nm及以下的芯片制造，更是核心中的核心。不过EUV光刻机，只有一家厂商能够制造，那就是荷兰...

近日，武汉宇微光学软件有限公司（以下简称“宇微光学”）宣布完成A轮数千万融资，致道资本联合武汉光谷产业投资、烽火创投三家机构共同参与投资。本轮融资完成后，宇微光学将进一步...

这一使用突破性技术的合作将为全球芯片制造商提供强大的化学品供应链，并支持下一代 EUV 应用的研发北京时间2022年7月15日——泛林集团 （NASDAQ： LRCX）、...

7月14日消息，据彭博社报道，荷兰外交大臣沃普克·胡克斯特拉证实，荷兰和美国正在就阻止阿斯麦（ASML）向中国出售技术一事进行讨论。当地时间7月13日，胡克斯特拉在接受记...

在芯片制造过程中，光刻工艺的作用是精细线路图形加工，光刻胶的分辨率可直接影响芯片最小特征尺寸，而缩短曝光波长可提高光刻胶分辨率。ArF光刻胶，是半导体光刻胶的一种，属于高...