德国通快集团在不久前完成了第200台EUV光刻机光源的发货。通快预计，在2022财年EUV业务销售额将大幅增加到6亿欧元。

厉害了！《自然》（Nature）刊登了来自清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与来自亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心（HZB）以及德国联邦物理技术研究院（PTB）的合作团队一...

比起理论科学上的突破,产业链的发展更为重要。无法制造逻辑、存储等高端芯片,是中国半导体行业发展长期以来难以解决的痛点。这背后,EUV光刻机的缺失,是中国芯片制造无法进一步...

通快举办了一场精彩的新品发布会，包括碟片激光器、纳秒激光器、飞秒激光器以及新一代激光三维机床等在内的15项新产品完成“中国首发”。发布会结束后，OFweek激光网对通快中...

现在，一种基于最先进激光器的新型实验室EUV光源能够为开发人员提供更高的空间和时间分辨率，这有助于开发人员理解并解决上述问题。

众所周知，过去几十年以来，芯片制造工艺，主要是光刻工艺。利用光线，将芯片电路图，投影到硅晶圆片上，中间最核心的设备，就是光刻机。 同时光刻技术，就直接定义了芯片工艺，直...

众所周知，目前的芯片制造工艺中，光刻是必不可少的步骤，所以光刻机也是至关重要的一种设备。 光刻机的类型与工艺制程，光源波长，是一一对应，比如干式DUV光刻机，采用193...

众所周知，目前国内的芯片产业，被光刻机卡住了脖子。 如果ASML不卖浸润式光刻机，不卖EUV光刻机给我们，在国产光刻机没有突破的情况之下，我们很难进入7nm以下。 而...

当地时间11月20日，隶属于日本滨松光子旗下的光电制造商Energetiq Technology宣布，公司已新成立了一个激光驱动光源（LDLS）业务部门。

最近，光刻机话题异常火热，似乎全世界都在关注中国本土相关产业的发展。要想制造出一台可商用的高端光刻机（可制造7nm及更先进制程芯片），是一项复杂的工程，因为高端光刻机所需...

前言：近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。近几年来，随着EUV光源的不断进展，EUV掩模开始位居三大技术挑战之首，而EUV掩模...

最近几天，国产光刻机又成为了市场热点，有很多媒体称，中国颠覆式创新下的EUV光刻机有了大突破，而团队是清华大学，具体项目是SSMB-EUV方案。 说的是有鼻子有眼，甚至...

日前媒体纷纷传言清华研发成功EUV光刻机，这个其实夸大了事实，不过却也确实是EUV光刻机的重大突破，将绕开ASML等西方垄断的EUV光刻技术路线，开辟一条全新的道路。 ...

8月29日，华为扔出重磅炸弹——华为MATE 60 pro，开售不到一小时售罄。之所以此次新机型开售掀起业界惊涛骇浪，主要是因为当初中国高制程芯片被西方国家卡脖子，直接让...

前言： 近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。 近几年来，随着EUV光源的不断进展，EUV掩模开始位居三大技术挑战之首，而E...

8月29日，华为扔出重磅炸弹——华为MATE 60 pro，开售不到一小时售罄。之所以此次新机型开售掀起业界惊涛骇浪，主要是因为当初中国高制程芯片被西方国家卡脖子，直接让...

近日，八亿时空宣布在KrF光刻胶方面取得了重大突破，已成功实现KrF光刻胶用PHS树脂及其衍生物百公斤级别的中试量产，并取得了国内部分光刻胶生产企业窄分布树脂订单，材料性...

虽然涨幅不如“翻倍再翻倍”的英伟达，阿斯麦（ASML）的股价也从底部实现了稳稳的翻倍。本轮受益于AI等新应用带来的需求释放，随着英伟达等公司从低谷...

众所周知，目前在所有的国产半导体设备之中，光刻机应该是最落后的一环了。 从之前机构出具的数据来看，少部分的国产半导体设备已经支撑到了5nm，大部分的设备支撑到28nm左...

紧随美国、日本，近日荷兰终于也发布了芯片禁令，并表示将于2023年9月1日正式生效。 如之前预计的一样，荷兰的芯片禁令，主要针对的对象为先进确实为先进的芯片制造技术，包...