极紫外光刻技术，成为潜在的摩尔定律的救世主已经很久了。 十几年前，路线图要求EUV于2011年到货。直到去年它才开始运行。
EUV源已达到半导体制造所需的200瓦级。然而，暴露的光致抗蚀剂的缺陷限制了当前7纳米节点的产量，并且未来的5和3纳米节点将面临更大的问题。
我们知道，芯片都是由晶体管组成的，比如苹果的A16，有160亿个晶体管。而电流在晶体管内部，会从起始端（源极）流向终点（漏极）。而电流流动过的过程中，会经过一个闸门（栅极...
根据SEMI预测，2021年全球半导体设备市场规模有望增长34％至953亿美元，到2022年全球半导体设备市场有望突破1000亿美元，主要驱动力来自于半导体行业扩张周期下...
文/李信中芯国际,失去了一员得力干将。7月4日,中芯国际发布公告表示,公司核心技术人员吴金刚博士近日因个人原因申请辞去相关职务并办理完成离职手续。离职后,吴金刚博士不再担...
文/李信中芯国际,失去了一员得力干将。7月4日,中芯国际发布公告表示,公司核心技术人员吴金刚博士近日因个人原因申请辞去相关职务并办理完成离职手续。离职后,吴金刚博士不再担...
华为这次投资的科益虹源正是一家激光光源供应商,科益虹源是国内第一、全球第三的激光光源供应商,激光光源是光刻机的一项重要核心技术之一,只有提供足够先进的激光光源才能研发出技...
众所周知,目前严重制约国产芯片制造技术进步的设备,就是光刻机了,因为目前全球最先进的光刻机是ASML的EUV光刻机,用于7nm及以下的芯片生产,仅ASML能够生产,却不能...
物联网智库 整理发布转载请注明来源和出处导 读近日,华为旗下的哈勃科技投资有限公司入股了北京科益虹源光电技术公司,后者主要业务涉及光刻机的核心技术,这意味着华...
近日消息指华为旗下的哈勃投资投资了高端准分子激光技术厂商北京科益虹源,这意味着它正积极参与光刻机产业链,希望为国内芯片制造产业链出一分力,推动国产芯片产业链实现独立自主发...
原子层刻蚀与沉积工艺利用自限性反应，提供原子级的控制。工艺产量提升、从更小的结构中移除的材料减少、以及对原子级控制的需求不断增长，这些因素都重新引起了人们对原子层刻蚀的兴...
博通公司 CTO Henry Samueli 早在 2013 年就表示过，15 年后摩尔定律就不管用了，称现有半导体工艺将在 5 nm 阶段达到极限。
今年，德国激光巨头通快（Trumpf）迎来了成立100周年的里程碑。日前，这家工业激光和机床供应商公布了创纪录的销售和利润，但同时表示，其产品销售正面临需求疲软和订单减少...
如今，芯片制造技术的竞争愈发激烈。台积电与英特尔这两大巨头在2nm到1nm制程领域竞相推出更先进的制程工艺，力图抢占市场先机。 在这场先进制程的对决中，你是更为信任台积...
当地时间11月20日，隶属于日本滨松光子旗下的光电制造商Energetiq Technology宣布，公司已新成立了一个激光驱动光源（LDLS）业务部门。
截至2023年6月30日2022/23财年结束，通快集团的销售额大幅增长27%，达到54亿欧元（2021/22财年：42亿欧元），这是公司成立100年以来实现的最高销售收...
最近，光刻机话题异常火热，似乎全世界都在关注中国本土相关产业的发展。要想制造出一台可商用的高端光刻机（可制造7nm及更先进制程芯片），是一项复杂的工程，因为高端光刻机所需...
最近几天，国产光刻机又成为了市场热点，有很多媒体称，中国颠覆式创新下的EUV光刻机有了大突破，而团队是清华大学，具体项目是SSMB-EUV方案。 说的是有鼻子有眼，甚至...
英特尔本周透露了Intel 18A（1．8nm 工艺）最新消息，并公布了计划采用 Intel 18A的两位第三方客户，分别为波音公司和诺斯洛普?格鲁曼公司。此前，在客户方...
作者：泰罗，编辑：小市妹 半导体的大行情，还没结束。 &n...
