11月29日，中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。

昨天关于中国成功超分辨率光刻机的新闻刷爆了朋友圈，这个新闻出来以后，舆论出现了两个极端，一堆人说很牛，一堆人说吹牛。那么这两种说法到底谁对谁错呢？

波的衍射极限关键科学问题研究项目编号是2013CBA01700，项目依托部门为中国科学院，项目第一承担单位是中国科学院光电技术研究所，项目首席科学家为罗先刚。

《超强激光驱动粒子加速及其重要应用》项目编号是2013CBA01500，项目依托部门为教育部和上海市科学技术委员会，项目第一承担单位是上海交通大学，项目首席科学家为张杰。

前言：近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。近几年来，随着EUV光源的不断进展，EUV掩模开始位居三大技术挑战之首，而EUV掩模...

前言： 近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。 近几年来，随着EUV光源的不断进展，EUV掩模开始位居三大技术挑战之首，而E...

本文来自2021年9月21日KLA发布的智能汽车跨行业报告，欲了解具体内容，请阅读报告原文CPU l 面板 l RF l CMOS l FPGA l 光刻机 l EDA封...

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伴随着全球半导体需求的持续增长，目前，全球各国都在积极争取半导体设备大厂投资，台湾正与韩国、新加坡，甚至于中国大陆较劲。在这样的背景之下，小编为你盘点一下目前全球前五大半...