英伟达安培显卡采用三星10nm工艺，支持光线追踪
2020-03-12 16:39
来源：
IT之家
根据外媒报道，爆料消息称英伟达的下一代GPU架构将基于三星10nm制程，而不是之前报道的台积电7nm工艺，据称使用的10nm制程更接近于三星提供的8LPP技术，另外新的Tegra芯片也将使用相同的制程。
外媒表示，英伟达安培架构曝光的GPU有GA102、GA103、GA104、GA106和GA1075款，配置最高的是GA102。报道还称英伟达新款GPU将全部支持RTX（实时光线跟踪），这意味着英伟达在安培架构上对RT核心设计进行升级，使其在性能较弱的显卡中也能实现光线追踪的效果。
相关人士提供的信息显示，配置最低的GA107为1280流处理器，4GB显存，最高的GA102 GPU为5376流处理器，12GB显存，其中GA102比上代的RTX 2080Ti性能提升了40％。
受到疫情的影响，英伟达曾宣布将月底GTC的大会改为线上直播。根据外媒anandtech的最新消息，GTC线上直播也将取消，英伟达将会采用新闻稿的形式公布新品，时间定在3月24日。
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