Exynos 990中藏有三星真正的7LPP工艺
2020-08-24 10:14
半导体百科
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去年,三星宣布在其Exynos 9825中使用的7LPP工艺中引入了EUV。通过对芯片的分析,我们发现他们在9825中的所谓7LPP工艺与在Exynos 9820中的8LPP工艺之间几乎没有区别。
现在,我们很高兴地说,我们在其旗舰产品Galaxy S20中的Exynos 990中发现了三星真正的7LPP工艺。如我们所料,这款7纳米EUV工艺是迄今观察到的三星密度最高的。
凭借27nm的fin节距,这一突破性创新使NMOS和PMOS晶体管的3fin/3fin版图可保持268nm的较小标准单元高度,同时拥有高驱动电流。
与台积电的7nm 3/3 7.5T 300nm标准单元高度和 2/2 6T 240nm标准单元高度相比,EUV光刻实现的密度确实更高。
英特尔的10纳米制程具有相近的272nm标准单元高度,但是采用了2/3 的fin数比例。除了节距微缩外,三星还以令人惊讶的实现方式推出了SDB,该SDB缩短了所需的晶体管隔离距离,最初宣布SDB会在其6LPP工艺平台中进行部署。
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