波段在极紫外和软X射线区域的高次谐波脉冲，对光谱学、成像和探测等领域有重大意义。高次谐波产生最重要的两个参数是光子通量和光谱覆盖范围，光子通量指单位时间单位光谱宽度内的光...

波段在极紫外和软X射线区域的高次谐波脉冲，对光谱学、成像和探测等领域有重大意义。高次谐波产生最重要的两个参数是光子通量和光谱覆盖范围，光子通量指单位时间单位光谱宽度内的光...

该文章素材来源于中科院微电子研究所、半导体行业观察光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、...

厉害了！《自然》（Nature）刊登了来自清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与来自亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心（HZB）以及德国联邦物理技术研究院（PTB）的合作团队一...

EUV（极紫外光）光刻机，是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来，有不少消息都指出，EUV光刻机耗电量非常大，甚至它还成为困扰台积电的一大难题。为何E...

光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻...

目前最先进的第五代光刻机采用EUV光刻技术，以波长为10－14nm的极紫外光作为光源。ASML生产的EUV光刻机光源由激光行业的巨头通快集团提供。通快集团为ASML提供用...

针对365nm，385nm，405nm等波段的紫外线传感器，目前市面上质量比较好的主要有工采网从国外进口的紫外光电二极管——SG01D-5LENS，SiC具有独特的特性，...

素有半导体制造业皇冠上的明珠之称的光刻机，是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机...

自由电子激光器( FEL)是一类不同于传统激光器的新型高功率相干辐射光源。虽然传统的激光器具有极好的单色性和相干性， 但它的低功率、低效率、固定频率和光束质量差的弱点， ...

随着目前LED技术的进步，白光LED的应用也逐渐开展，包括指示灯、携带式手电筒、液晶屏幕背光板、汽车仪表及内装灯等。而业界更相信，未来10年内，白光发光二极管将普遍应用在...

最近，光刻机话题异常火热，似乎全世界都在关注中国本土相关产业的发展。要想制造出一台可商用的高端光刻机（可制造7nm及更先进制程芯片），是一项复杂的工程，因为高端光刻机所需...

近日，光学领域权威期刊Laser & Photonics Reviews（《激光与光子学评论》，影响因子:11）刊发了我院周圣军教授团队在发光二极管（Light-emit...

近日，八亿时空宣布在KrF光刻胶方面取得了重大突破，已成功实现KrF光刻胶用PHS树脂及其衍生物百公斤级别的中试量产，并取得了国内部分光刻胶生产企业窄分布树脂订单，材料性...

近年来，随着个人电脑的普及和互联网的快速发展，数字移动通信业务转向个人通信，引发了传统通信的革命和多媒体通信业务的出现，刺激了光通信业务的快速发展。但是与大规模的集成电路...

近日，产业链的消息人士＠手机晶片达人称，由于先进制程产能利用率开始下滑，而且评估之后下滑时间会持续一段周期，台积电计划从年底开始，将部分EUV设备关机，以节省EUV设备巨...

随着UVC LED行业的爆火，印刷业也迎来了转型升级的契机，甚至说整个紫外光行业都迎来了转型升级的契机。

作者查攸吟自主的道路并不总是一帆风顺，但我们仍必须坚持走下去，因为除此之外别无出路。   责编丨查攸吟   编辑丨别致2021年已...

X射线可分为波长较长的软X射线和波长较短的硬X射线,软X射线的波长在0．1 nm到10 nm之间,其中2．34 nm到4．4 nm的波段位于氧原子和碳原子K吸收带之间,相...

　　自LED光源诞生以来,照明产业经历了一轮接一轮的科技变革,为照明用户带来了不同的灯光控制模式、不同的能源节约方式、不同的光生物特性功效……虽然LED光源技术革新带来的...