日前媒体披露一份芯片制造的专利，据称为深圳两家企业联合申请，该项专利与芯片制造有关，业界普遍认为这项专利对于其中一家知名科技企业非常关键，它即将发布一款5.5纳米的芯片，...

众所周知，全球最牛的光刻机厂商，是荷兰的ASML，它垄断了全球90%的光刻机市场，EUV光刻机市场更是高达100%，只有它能够制造。 但ASML表面上看是荷兰的，实际上...

不管大家承认不承认，事实上还真是如此，美国、日本、中国台湾、荷兰、韩国这5个地区，如果联手起来，就真正垄断了全球的芯片产业。 美国掌控EDA、IP、半导体设备这些上游产...

（本篇文篇章共715字，阅读时间约1分钟） 近日荷兰光刻机巨头ASML首次向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机，这一机器被视为全球最先...

（本篇文篇章共935字，阅读时间约1分钟） 近期，台积电发布了其在1nm制程芯片领域的产品规划，计划在2030年前完成1nm级A10工艺的开发。这一...

前言：近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。近几年来，随着EUV光源的不断进展，EUV掩模开始位居三大技术挑战之首，而EUV掩模...

最近最火的芯片是什么？在国内我认为绝对是华为Mate60上面的那一颗麒麟9000S。 虽然这颗芯片工艺未知，代工厂未知，5G未知，生产时间未知，但一直是大家关注的重点，...

前言： 近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。 近几年来，随着EUV光源的不断进展，EUV掩模开始位居三大技术挑战之首，而E...

近日，华为Mate 60 Pro手机搭载的麒麟9000S处理器，将公众视线再次聚焦到了国产芯片制造之上。 虽然目前代工厂未知，工艺未知，甚至GPU、CPU核等都有很多未...

众所周知，目前的硅基芯片，其制造过程都离不开光刻工艺，所以光刻机必不可少。 干式光刻机ArF Dry，最多可以实现65nm制程。浸润式光刻机ArFi可以实现的最小制程是...

众所周知，目前硅基芯片的制造，离不开光刻工艺。 而光刻工艺，则离不开光刻机，而全球目前仅4家半导体芯片制造的光刻机厂商，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子。 其中...

在当前的硅基芯片制造过程中，光刻法是唯一的量产方法。 什么叫光刻法，既然就是利用光线，照射刻录好的光掩膜板，把上面的电路图，投影到硅晶圆上，类似于投影机的原理一样。 ...

众所周知，紧随美国、日本之后，荷兰也出台了关于半导体设备/技术的禁令。 分析荷兰的这个禁令，可以看出来，与美国之前的步调基本一致的，那就是对14nm及以下工艺的设备，全...

美国拉拢了日本、荷兰，从芯片设备方面进一步加码限制中国芯片，不过日前知名院士倪光南认为中国在存储芯片方面拥有自己的核心知识产权，不会受EUV光刻机的限制所影响。 据...

目前芯片制造领域的技术，主要就是光刻技术。 而光刻技术下，光刻机的分辨率就决定了芯片的工艺，比如7nm以下的芯片，必须用到EUV光刻机；而7-45nm的芯片，使用浸润式...

众所周知，美国最近已经联手荷兰、日本，对中国芯进行了全面围堵，目标是卡死中国芯片工艺制程在14nm，不准再前进。实话实说，目前的形势对我们非常不利，ASML的EUV光刻机...

近日，韩媒报道称，韩国企业石墨烯实验室 （Graphene Lab） 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 （Pellicle） 。而使用这种EUV光罩保护膜后，在使...

目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了。但真的自研出EUV光刻机，我们就能够...

日前,国内芯片领域传来了好消息:清华大学突破了光学像差难题,成功研制元成像芯片。芯片设计与制造领域可能有了一条全新的突围之路。据中国科学院网消息称,清华大学成像与智能技术...

据国内相关媒体近日报道，中科鑫通“多材料、跨尺寸”光子芯片生产线预计将于2023年在北京建成。该生产线完工后，能满足通信、数据中心、激光雷达、微波光子、医疗检测等领域的市...