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PECVD生长氮化硅介质膜的工艺研究

[摘要]  对PECVD生长氮化硅介质膜的工艺条件进行了实验研究,获得了生长氮化硅介质膜的最佳工艺条件,制作出了高质量的氮化硅质膜.
下载说明: 文件大小:0.19MB | 文件格式:PDF | 上网时间:2009-05-04
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